nitrur de ferrosilici en pols fabricat a la Xina
Pols de nitrur de ferrosilici Paràmetres
| N | Si | Fe | O | densitat a granel |
| Menor o igual a | Major o igual a | |||
| 28-31 | 47-52 | 12-17 | 2 | 3.6 |
| 1. Els productes són adequats per a la fosa d'acer inoxidable, fosa d'aliatges especials, materials refractaris especials, la indústria d'armes, la indústria electrònica, la indústria de la fosa, etc. 2. Els components i la mida de les partícules es poden ajustar segons les necessitats de l'usuari |
||||
Granularitat de l'especificació: bloc natural, 10-100mm, 10-60mm, 3-10mm, 1-3mm, 0-1mm o personalitzat segons els requisits del client.
Embalatge: embalatge de bosses de tona (1000 kg/bossa) o personalitzat segons els requisits del client.
Coneixement en pols de nitrur de silici ferro
Perspectives d'aplicació denitrur de ferrosilicipols: actualment, la velocitat i la densitat d'integració dels circuits semiconductors estan augmentant gradualment i, per tant, la mida dels xips de semiconductors augmenta gradualment. A més, per proporcionar estructures d'interconnexió multicapa, l'amplada de les interconnexions es miniaturitza gradualment i el diàmetre de l'hòstia es fa més gran.
Tanmateix, a mesura que augmenta la densitat d'integració dels dispositius i disminueix l'amplada de línia mínima, es troben limitacions que no es poden superar mitjançant la planarització local segons les tècniques relacionades. Per millorar l'eficiència o la qualitat del processament, la pols de nitrur de ferrosilici utilitza poliment mecànic químic (CMP, planarització mecànica química) per realitzar la planarització global de l'hòstia. La planarització global mitjançant CMP és una part necessària del processament d'hòsties existents.
Aplicacions específiques de la pols de nitrur de ferrosilici: els fluids de poliment utilitzats per al tractament CMP contenen partícules abrasives com ara sílice, òxid d'alumini o òxid de ceri, i el tractament CMP es classifica àmpliament en òxid CMP i metall CMP. Els purins de poliment per a CMP d'òxid generalment tenen un pH de 10-12, i els purins de poliment per a CMP metàl·lics tenen un pH àcid de 4 o menys. Els ajustadors de coixinets CMP convencionals inclouen ajustadors de coixinets CMP galvanitzats fabricats mitjançant processament de galvanoplastia i ajustadors de coixinets CMP de tipus de fusió fabricats mitjançant ajustadors de coixinets CMP de fusió i pols de nitrur de ferrosilici a altes temperatures.
Tanmateix, aquests condicionadors de coixinets CMP de tipus de xapa convencional i de fusió tenen problemes en els aspectes següents. Quan s'utilitzen per a l'ajust in situ en el processament de CMP de metall, les partícules de diamant unides a la superfície del condicionador de coixinets CMP es veuen afectades per l'ús de purins CMP. L'acció de poliment de les partícules de poliment i la solució àcida provoca l'erosió de la superfície i es desprèn de la superfície. A més, el substrat pot estar fet preferiblement d'un material ceràmic com la pols de nitrur de ferrosilici (Si3N4) o silici (Si). Altres exemples de materials del substrat 10 inclouen òxid d'alumini (A1203), nitrur d'alumini (AlN), òxid de titani (TiO2), òxid de zircó (ZrOx) i diòxid de silici (SiO2).
Vam passar la certificació ISO9001 i vam ser certificats per SGS. Exportem a tot el món i donem la benvinguda sincerament a la vostra cooperació, esperant construir una relació comercial amb vosaltres.
Etiquetes populars: pols de nitrur de ferrosilici, fabricants de pols de nitrur de ferrosilici de la Xina, proveïdors, fàbrica