Quin és l’àmbit d’aplicació o les característiques de la pols de silici metàl·lic?
La pols de silici metàl·lic, per dir -ho simplement, és l’estat de pols del silici metàl·lic. El fabricant de pols de silici metàl·lic de Zhenan va introduir que, ja que el component principal de la pols de silici metàl·lic és de silici, és sens dubte similar a les propietats i usos del silici. A continuació, fem una breu ullada a l’abast de l’aplicació o a les característiques de la pols de silici metàl·lic!
El silici té dos enllaços covalents polars: silici amorf i silici cristal·lí. El silici amorf és una pols negra, que en realitat és un microcristal. El silici cristal·lí té l'estructura molecular i les propietats semiconductors del diamant, amb un punt de fusió de 1410 graus, un punt de fusió de 2355 graus, una densitat relativa de 2,32 ~ 2,34 g/cm3, una duresa de 7 i una britoritat.
El silici químic es refereix al silici metàl·lic utilitzat en la producció de materials de silicona i polisílic. Des d’una perspectiva global, el consum de silici utilitzat en la indústria metal·lúrgica supera el del silici químic. Tanmateix, amb el ràpid desenvolupament de la ciència i la tecnologia, l’ús de silici químic en indústries com ara materials de silicona i producció de semiconductors s’ha continuat expandint, i s’utilitza àmpliament en la producció de monòmers de silicona i polímer de metil silicona, silicona, resina de silicona construint anticorrosió, recobriments impermeables, etc. Tenen propietats úniques com la resistència a la calor, la resistència, la radiació, la humitat i la humitat i la humitat del caldi de la resistència al calor, la resistència al radiació, la radiació, i la humitat, la resistència al caldi, la radiació, i la humitat del radiació, i la humitat, la resistència al caldi de la radiació, la radiació, i la humitat, la resistència al caldi, la matèria, i la radiació, i la humitat del radiació, i la radiació, i la humitat, la resistència al caldi, la matèria, i la radiació, i la radiació. resistència. Utilitzat en equips elèctrics, aviació, maquinària, plantes químiques, productes farmacèutics, defensa nacional i unitats de construcció. Com a components electrònics bàsics dels xips de circuit integrat, més del 95% estan fabricats amb silici semiconductor, que és la columna vertebral de la fabricació d'informació moderna.
El silici amorf té propietats físiques brillants i pot cremar violentament a O2. Reacciona amb materials no metàl·lics com ara làmpades halògens, nitrogen i carboni a temperatures altes, i també pot reaccionar amb metalls com el magnesi, el calci i el ferro per formar silicides. El silici amorf és bàsicament insoluble en oxidants forts i matèria orgànica, inclòs l’àcid clorhídric, però es pot dissoldre en una barreja de cianur de sodi i àcid clorhídric. La solució concentrada d’hidròxid de sodi pot dissoldre silici amorf i alliberar gas de radó. El silici cristal·lí és relativament inactiu i no es combina amb O2 ni a temperatures altes. També és insoluble en qualsevol matèria oxidant i orgànica forta, però es pot dissoldre en una barreja de cianur de sodi i àcid clorhídric i solució concentrada d’hidròxid de sodi.
Mòbil (whatsapp/wechat): +8615896822096
Adreça: Huafu Commercial Center, districte de Wenfeng, Ciutat de Anyang, província de Henan, Xina
