Full de tàntal pur / làmina / bloc / tauler / vareta / filferro / tub / placa amb alta puresa 99,95% -99,99%
ZhenAn 4N Tàntal Ta Pure Metal Target Materials d'objectiu de tantal de gran mida
Placa de tàntal Ta10w làmines d'aliatge de tungstè de tàntal
Quins són els principals usos dels objectius de tàntal?
Un dels usos més comuns dels objectius de tàntal és com a material objectiu per a diverses fonts de radiació com ara feixos d'electrons i raigs X. Les propietats pròpies del tàntal el converteixen en la millor matèria primera per a aquest tipus d'aplicacions perquè pot suportar altes temperatures i radiacions sense malmetre-se ni perdre la seva eficàcia.
Els objectius de tantal s'utilitzen habitualment en la fusió de feix d'electrons (EBM) i la soldadura per feix d'electrons (EBW). Els feixos d'electrons s'utilitzen en aquests processos per fondre i soldar metalls. El procés EBM implica l'ús d'un objectiu de tàntal, que es col·loca en el camí d'un feix d'electrons. Els electrons van colpejar l'objectiu, fent que s'escalfi i finalment fongui el metall que s'està processant. Aquest procés s'utilitza sovint per unir metalls i aliatges diferents perquè permet un alt grau de precisió i control. A més, la calor intensa generada pel feix d'electrons es pot utilitzar per formar formes i estructures complexes.
El tàntal també s'utilitza en fonts de raigs X. Les fonts de raigs X produeixen raigs X bombardejant un objectiu de tàntal amb electrons d'alta energia. Els electrons interaccionen amb l'objectiu, produint raigs X que després es dirigeixen cap a l'objecte que s'inspecciona. El procés s'utilitza sovint en imatges mèdiques i altres aplicacions industrials perquè proporciona una visió detallada de l'estructura interna d'un objecte.