Propietats químiques i físiques
Fórmula química: basi₂
Massa molar: ~ 193,5 g/mol
Aspecte: sòlid cristal·lí grisenc-negre
Densitat: ~ 4,3 g/cm³
Punt de fusió: ~ 1.200 graus (varia amb la composició)
Estructura de cristall: Orthorhombic (a temperatura ambient)
Conductivitat elèctrica: propietats semiconductors (utilitzades en cèl·lules solars de pel·lícula fina)
El silicida de bari és un agent reductor i reacciona amb aigua i àcids per produir silà (Sih₄), un gas inflamable i compostos de bari.
Síntesi i producció
El silicida de bari es sintetitza normalment a través:
Reacció en estat sòlid: Escalfar una barreja deBari (BA)isilici (SI)pols a altes temperatures (800-1.200 graus) sota una atmosfera inerta (per exemple, argó).
Reducció metalotèrmica: Utilitzant òxid de bari (BAO) i diòxid de silici (SiO₂) amb un agent reductor com alumini o magnesi.
Aplicacions de bari de silici
(1) indústria de semiconductors
Cèl·lules solars de pel·lícula fina: Basi₂ és una capa absorbent prometedora a causa del seu Optimal BandGAP (~ 1,3 eV) i el coeficient d’absorció d’alta llum.
Materials termoelèctrics: ús potencial en dispositius de conversió d’energia.
(2) Metal·lúrgia
Actua com a agent desoxiditzador i desulfuritzador en la producció d'acer.
S'utilitza en formació d'aliatge per millorar la duresa i la resistència a la corrosió.
(3) Síntesi química
Font de silici en reaccions organometàliques.
S'utilitza per generar silà (Sih₄), un precursor de materials basats en silici.
(4) Tecnologies de recerca i emergents
Investigat per a aplicacions quàntiques DOT i dispositius optoelectrònics.
Es va estudiar per emmagatzemar hidrogen a causa de la seva capacitat de formar hidrurs.
Etiquetes populars: Barium Silicide: una visió general integral, China Barium Silicide: una visió general integral, proveïdors, fàbrica, fàbrica