Detalls de carbur de silici
En primer lloc, les característiques materials de l'esmeril
Emery, el nom químic del qual és carbur de silici (SiC), és un compost compost per dos elements: silici (Si) i carboni (C). A la natura, els minerals de carbur de silici natural són molt escassos, de manera que la major part del carbur de silici utilitzat a la indústria s'obté per síntesi artificial. L'esmeril té excel·lents propietats físiques i químiques, com ara una gran duresa, alt punt de fusió, resistència al desgast i resistència a la corrosió, que fan que l'esmeril s'utilitzi àmpliament en molts camps.
En segon lloc, el mètode de síntesi d'esmeril
La síntesi d'esmeril s'aconsegueix principalment fent reaccionar sílice i coc a alta temperatura. En aquest procés, el silici en sílice i el carboni en el coc es combinen per formar cristalls de carbur de silici. La temperatura de l'esmeril sintètic sol arribar a uns quants milers de graus centígrads, per la qual cosa cal controlar les condicions de reacció i garantir la qualitat del producte amb l'ajuda d'equips i tecnologia professionals. L'esmeril sintetitzat es pot triturar i cribar per obtenir productes amb diferents granularitats i puresa per satisfer les necessitats de diferents indústries.
En tercer lloc, el camp d'aplicació de l'esmeril
1. Indústria abrasiva: l'esmeril s'utilitza àmpliament com a material abrasiu i abrasiu per la seva alta duresa i resistència al desgast. Es pot utilitzar per fabricar eines de mòlta com moles, paper de vidre i cintes abrasives, i per moldre i polir materials com metalls i ceràmica.
2. Indústria refractària: l'esmeril té les característiques d'alt punt de fusió i resistència a la corrosió, per la qual cosa també s'utilitza com a matèria primera per a la fabricació de refractaris. Pot suportar la prova d'alta temperatura i ambient extrem i té un paper important en la metal·lúrgia, la ceràmica, el vidre i altres indústries.
3. Indústria dels semiconductors: en els darrers anys, amb el desenvolupament continu de la tecnologia dels semiconductors, l'esmeril s'ha utilitzat àmpliament en la indústria dels semiconductors. Es pot utilitzar com a material de substrat per fabricar dispositius semiconductors basats en silici i millorar el rendiment i l'estabilitat dels dispositius.
En resum, l'esmeril, com a material d'alt rendiment, ha mostrat els seus avantatges i valors únics en molts camps. Amb el continu progrés de la ciència i la tecnologia i el ràpid desenvolupament de la indústria, la perspectiva d'aplicació de l'esmeril serà més àmplia.

Paràmetres del carbur de silici
| No. | Item | 2-4H/6H-N-SiC | 3-4HN-SiC | 4-4HN-SiC | 6-4HN-SiC |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | Material | SiC de tipus N, carbur de silici d'un cristall d'alta puresa | |||
| 2 | Politipus | 4H/6H | Monocristall 4H | ||
| 3 | Orientació superficial | A l'eix<0001>Eix +/- 0,5 graus<0001>inclina 4/8 +/-0,5 graus cap a l'eix<11-20> | |||
| 4 | Pis de primària | <10-10> / <11-20>+/-5 graus | |||
| 5 | Longitud plana primària | 15.88 +/- 1,65 mm | 22.22 +/- 3.17 mm | 32.5 +/- 2.0mm | 47.5 +/- 1,5 mm |
| 6 | Longitud plana secundària | 8.0 +/- 1,65 mm | 11.18 +/- 1,52 mm | 18.0 +/- 2.0mm | Cap |
| 7 | Diàmetre | 50.8 +/- 0,38 mm | 76.2 +/- 0,38 mm | 100.0 +/- 0,50 mm | 150.0 +/- 0,25 mm |
| 8 | Gruix | 330/430 +/- 25um | 350/432 +/- 25um | 350/500 +/- 25um | 350/500 +/- 25um |
| 9 | TTV | Menys o igual a 15um | Menys o igual a 25um | Menys o igual a 35um | Menys o igual a 10um |
| 10 | ARC | Menys o igual a 25um | Menys o igual a 35um | Menys o igual a 45um | Menys o igual a 60um |
| 11 | WRP | Menys o igual a 25um | Menys o igual a 35um | Menys o igual a 45um | Menys o igual a 60um |
| 12 | Superfície de doble cara | Esmalt CMP de cara Si, poliment òptic de cara C / Esmalt CMP de cara C, polit òptic de cara Si | |||
| 13 | Doble cara Rugositat | Cara polida CMP<0.5nm Optical polish face<1.0nm | |||
| 14 | Resistivitat | {{0}},013 ~ 0,028 ~ 2,5 Ω·cm (tipus N/P) | |||
| 15 | Densitat de microtubes | Inferior o igual a 30 micropipes/cm2 | Inferior o igual a 30 micropipes/cm2 | Menor o igual a 0~1~5~15~30/cm2 | Menor o igual a 1~5/cm2 |
| 16 | Exclusió de vora | 1 mm | 2 mm | 3 mm | 3 mm |
| 17 | Marcatge làser | Frontal / posterior o preferència del client | |||
| 18 | Aparença | Neteja, lliure de materials estranys, esquerdes, marques de serra, estelles. | |||
| 19 | paquet | Empaquetat en una sala neta de classe 100, 25 unitats d'hòstia preparada per a Epi en una caixa de múltiples hòsties tret que s'especifiqui el contrari. | |||
| 20 | Observacions | Les especificacions del client no enumerades anteriorment també estan disponibles i personalitzades a petició | |||

Etiquetes populars: esmeril de carbur de silici, fabricants d'esmeril de carbur de silici de la Xina, proveïdors, fàbrica

